国产成人在线视频网站,国产成人精品在视频,国产亚洲欧美日韩国产片,无遮挡又黄又刺激的视频

廣東可易亞半導體科技有限公司

國家高新企業(yè)

cn en

新聞中心

MOS管保護措施技術(shù)說(shuō)明詳解-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2020-10-26 

分享到:

MOS管保護措施技術(shù)說(shuō)明詳解-KIA MOS管


MOS管保護措施:功率MOS管的SOA曲線(xiàn)

雖然功率MOS管有諸多優(yōu)點(diǎn),但在電路設計過(guò)程中,功率MOS管往往是最容易損壞的元件,要想安全可靠的使用好功率MOS管并不容易,因此功率MOS管的驅動(dòng)和保護問(wèn)題是功率器件設計的關(guān)鍵。


圖1為功率MOS管的安全工作區(SOA)曲線(xiàn),晶體管的擊穿電壓決定了其最大的漏源電壓VDS ,電遷移限制確定了晶體管的最大漏極電流ID。芯片的最高工作溫度與散熱共同決定了最大的穩態(tài)功PD。圖中虛線(xiàn)表示的是SOA邊界,實(shí)線(xiàn)顯示了縮小的SOA區域,為該器件的實(shí)際情況。


MOS管保護措施


從圖中可以看到功率MOS管的SOA范圍受電學(xué)SOA和熱學(xué)SOA限制,超過(guò)該限制,功率管將在極短時(shí)間內(通常為10ms)燒毀。


MOS管保護措施:電學(xué)SOA限制

功率MOS管的電學(xué)SOA限制通常采用漏源擊穿電壓BVDSS的大小來(lái)衡量。由于MOS內部存在寄生的與MOS管并聯(lián)的雙極晶體管如圖2所示,MOS漏源擊穿電壓BV的幅度會(huì )隨內部寄生雙極晶體管的導通而減小,而內部寄生雙極晶體管的導通將導致漏極電流繼續增大,擊穿電壓進(jìn)一步減小,從而形成一個(gè)正反饋結構。


此時(shí)如果不能限制該電流的繼續增大,則器件最終會(huì )因過(guò)熱自毀。如果向MOS管注人恒定電流,漏源電壓會(huì )增大并超過(guò)擊穿電壓BV,之后漏源電壓將回跳到一定的低值。流經(jīng)漏區-襯底的大電流造成強烈的局部過(guò)熱,如果不使用外部手段中止漏極電流,晶體管的這部分溫度會(huì )很快升高到破壞性水平。因此對功率MOS管的過(guò)壓及過(guò)溫保護是非常必要的。


MOS管保護措施


圖3為一種簡(jiǎn)單的功率MOS管過(guò)壓保護結構,采用在功率MOS管旁并聯(lián)一個(gè)反偏二極管的方法,由于反偏二極管的特性,當Vds電壓變大超過(guò)二極管DI的反向擊穿電壓時(shí),二極管反向導通,電流從二極管流過(guò),從而限制了功率管Vds的大小,對MOS管起到一定的保護作用。


MOS管保護措施:熱學(xué)SOA限制

MOS結構中固有寄生雙極型晶體管具有和其他雙極晶體管一樣的缺點(diǎn),尤其是會(huì )出現熱擊穿。當在瞬態(tài)過(guò)載的情況下,雪崩擊穿的M0S管可吸收一定程度的能量,由于受到電學(xué)SOA限制,功率管通常會(huì )具有很低的雪崩擊穿標度,在發(fā)生雪崩擊穿時(shí),約1ms的延遲后,聚集的電流就會(huì )將雪崩MOS管燒毀。


因此在設計大功率晶體管時(shí),我們必須考慮如何給功率管散熱和對其進(jìn)行過(guò)熱保護問(wèn)題。功率管散熱一般有以下四種方法:


①過(guò)熱保護電路設計

電路設計中采用過(guò)熱保護結構,當溫度達到一定程度,關(guān)斷功率管輸出,抑制過(guò)大電流產(chǎn)生的熱量;圖4為一典型的過(guò)溫保護電路結構,該電路利用三極管的基極-發(fā)射極電壓的負溫度系數特性,產(chǎn)生正溫度系數電流與電流源中電流相比較。


正常溫度下,由于Vbg小于Q1、Q2的BE結電壓,Q1、Q2.Q3截止,Vp輸出低電平;當溫度升高時(shí),Q1、Q2的BE結電壓減小,而Vbg保持不變,Q1、Q2、Q3逐步進(jìn)入導通狀態(tài),但Q3中電流仍小于電流源電流,Vp輸出仍低電平,當溫度達到T1℃后,流過(guò)Q3的電流大于電流源中電流,Vp輸出高電平,保護電路起作用。


此時(shí)M9導通,其導通電阻與R4并聯(lián)降低了Q1 - R4-R5-Q2支路上的電阻,因此流過(guò)Q3的電流進(jìn)一步加大。當溫度逐漸下降時(shí),BE結電壓逐漸增大,流過(guò)Q3的電流逐步減少,當溫度下降到T1℃時(shí),M9仍在導通狀態(tài),流過(guò)Q3的電流仍大于電流源電流,因此保護仍繼續,當溫度下降到T2℃時(shí), Vbg小于Q1、Q2的BE結電壓,保護電路關(guān)斷。


因此該過(guò)溫保護具有一定的遲滯效果,可以避免保護電路在同一溫度開(kāi)啟關(guān)斷。由于Vp與功率MOS管MP的柵極相連,因此當功率管的溫度過(guò)高時(shí),保護電路迅速啟動(dòng),降低功率MOS管的柵壓(NMOS)使得功率MOS管關(guān)斷,從而起到保護MOS功率管的作用。


MOS管保護措施



②增大功率管與襯底的接觸面積

在不改變功率管驅動(dòng)能力(即不改變寬長(cháng)比)的情況下,增大芯片版圖面積,增加柵極與源極和柵極與漏極的間隙,提高功率管與襯底的接觸面積來(lái)提高芯片的散熱能力,其缺點(diǎn)是增大了芯片面積,提高芯片成本。


③采取散熱良好的封裝形式

圖5為集成電路的熱耗散示意圖,從圖中可以看出,芯片在正常工作時(shí),通過(guò)傳導、輻射、對流等方式向外散發(fā)熱量其等效熱阻如圖6所示。


MOS管保護措施


熱阻大表示器件傳熱阻抗大,傳熱困難,因此比較容易產(chǎn)生熱的問(wèn)題,熱阻小表示器件傳熱較容易。因此散熱問(wèn)題較小。為了減小封裝的熱阻大小。我們經(jīng)常采用具有較高熱導率的金屬封裝或陶瓷封裝結構,同時(shí)提高芯片的粘接工藝,降低粘接處的熱阻大小。


④硅片背面減薄技術(shù)

目前國內代工廠(chǎng)中,6寸硅圓片的厚度一般為600ym左右,而電路層的厚度一般以A°為計最單位。相對襯底厚度僅為薄薄的一層。對硅圓片進(jìn)行背面減薄則能夠在保證其機械應力良好的情況下減少熱阻大小,提高熱擴散效率,增強芯片的性能和壽命。




聯(lián)系方式:鄒先生

聯(lián)系電話(huà):0755-83888366-8022

手機:18123972950

QQ:2880195519

聯(lián)系地址:深圳市福田區車(chē)公廟天安數碼城天吉大廈CD座5C1


請搜微信公眾號:“KIA半導體”或掃一掃下圖“關(guān)注”官方微信公眾號

請“關(guān)注”官方微信公眾號:提供  MOS管  技術(shù)幫助