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MOS管知識科普:功率mos管為何會(huì )被燒毀詳解-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2020-05-29 

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MOS管知識科普:功率mos管為何會(huì )被燒毀詳解

本文主要解析功率mos管為何會(huì )被燒毀。mos在控制器電路中的工作狀態(tài):開(kāi)通過(guò)程(由截止到導通的過(guò)渡過(guò)程)、導通狀態(tài)、關(guān)斷過(guò)程(由導通到截止的過(guò)渡過(guò)程)、截止狀態(tài)。


Mos主要損耗也對應這幾個(gè)狀態(tài),開(kāi)關(guān)損耗(開(kāi)通過(guò)程和關(guān)斷過(guò)程),導通損耗,截止損耗(漏電流引起的,這個(gè)忽略不計),還有雪崩能量損耗。只要把這些損耗控制在mos承受規格之內,mos即會(huì )正常工作,超出承受范圍,即發(fā)生損壞。而開(kāi)關(guān)損耗往往大于導通狀態(tài)損耗,不同mos這個(gè)差距可能很大。

MOS管,功率mos管為何會(huì )被燒毀


Mos損壞主要原因與Mos開(kāi)關(guān)原理詳解

過(guò)流:持續大電流或瞬間超大電流引起的結溫過(guò)高而燒毀;

過(guò)壓:源漏過(guò)壓擊穿、源柵極過(guò)壓擊穿;

靜電:靜電擊穿,CMOS電路都怕靜電;


Mos開(kāi)關(guān)原理(簡(jiǎn)要):Mos是電壓驅動(dòng)型器件,只要柵極和源級間給一個(gè)適當電壓,源級和漏級間通路就形成。這個(gè)電流通路的電阻被成為mos內阻,就是導通電阻。這個(gè)內阻大小基本決定了mos芯片能承受的最大導通電流(當然和其它因素有關(guān),最有關(guān)的是熱阻),內阻越小承受電流越大(因為發(fā)熱小)。


Mos問(wèn)題遠沒(méi)這么簡(jiǎn)單,麻煩在它的柵極和源級間,源級和漏級間,柵極和漏級間內部都有等效電容。所以給柵極電壓的過(guò)程就是給電容充電的過(guò)程(電容電壓不能突變),所以mos源級和漏級間由截止到導通的開(kāi)通過(guò)程受柵極電容的充電過(guò)程制約。然而,這三個(gè)等效電容是構成串并聯(lián)組合關(guān)系,它們相互影響,并不是獨立的,如果獨立的就很簡(jiǎn)單了。


其中一個(gè)關(guān)鍵電容就是柵極和漏級間的電容Cgd,這個(gè)電容業(yè)界稱(chēng)為米勒電容。這個(gè)電容不是恒定的,隨柵極和漏級間電壓變化而迅速變化。這個(gè)米勒電容是柵極和源級電容充電的絆腳石,因為柵極給柵-源電容Cgs充電達到一個(gè)平臺后,柵極的充電電流必須給米勒電容Cgd充電。這時(shí)柵極和源級間電壓不再升高,達到一個(gè)平臺,這個(gè)是米勒平臺(米勒平臺就是給Cgd充電的過(guò)程),米勒平臺大家首先想到的麻煩就是米勒振蕩。(即,柵極先給Cgs充電,到達一定平臺后再給Cgd充電)。


因為這個(gè)時(shí)候源級和漏級間電壓迅速變化,內部電容相應迅速充放電,這些電流脈沖會(huì )導致mos寄生電感產(chǎn)生很大感抗。這里面就有電容、電感、電阻組成震蕩電路(能形成2個(gè)回路),并且電流脈沖越強頻率越高震蕩幅度越大,所以最關(guān)鍵的問(wèn)題就是這個(gè)米勒平臺如何過(guò)渡。


Gs極加電容,減慢mos管導通時(shí)間,有助于減小米勒振蕩。防止mos管燒毀。


過(guò)快的充電會(huì )導致激烈的米勒震蕩,但過(guò)慢的充電雖減小了震蕩,但會(huì )延長(cháng)開(kāi)關(guān)從而增加開(kāi)關(guān)損耗。Mos開(kāi)通過(guò)程源級和漏級間等效電阻相當于從無(wú)窮大電阻到阻值很小的導通內阻(導通內阻一般低壓mos只有幾毫歐姆)的一個(gè)轉變過(guò)程。


比如一個(gè)mos最大電流100a,電池電壓96v,在開(kāi)通過(guò)程中,有那么一瞬間(剛進(jìn)入米勒平臺時(shí))mos發(fā)熱功率是P=V*I(此時(shí)電流已達最大,負載尚未跑起來(lái),所有的功率都降落在MOS管上),P=96*100=9600w!這時(shí)它發(fā)熱功率最大,然后發(fā)熱功率迅速降低直到完全導通時(shí)功率變成100*100*0.003=30w(這里假設這個(gè)mos導通內阻3毫歐姆),開(kāi)關(guān)過(guò)程中這個(gè)發(fā)熱功率變化是驚人的。


如果開(kāi)通時(shí)間慢,意味著(zhù)發(fā)熱從9600w到30w過(guò)渡的慢,mos結溫會(huì )升高的厲害。所以開(kāi)關(guān)越慢,結溫越高,容易燒mos。為了不燒mos,只能降低mos限流或者降低電池電壓。比如給它限制50a或電壓降低一半成48v,這樣開(kāi)關(guān)發(fā)熱損耗也降低了一半,不燒管子了。


這也是高壓控容易燒管子原因,高壓控制器和低壓的只有開(kāi)關(guān)損耗不一樣(開(kāi)關(guān)損耗和電池端電壓基本成正比,假設限流一樣),導通損耗完全受mos內阻決定,和電池電壓沒(méi)任何關(guān)系。


其實(shí)整個(gè)mos開(kāi)通過(guò)程非常復雜。里面變量太多。總之就是開(kāi)關(guān)慢不容易米勒震蕩,但開(kāi)關(guān)損耗大,管子發(fā)熱大,開(kāi)關(guān)速度快理論上開(kāi)關(guān)損耗低(只要能有效抑制米勒震蕩)。但是往往米勒震蕩很厲害(如果米勒震蕩很?chē)乐兀赡茉诿桌掌脚_就燒管子了),反而開(kāi)關(guān)損耗也大,并且上臂mos震蕩更有可能引起下臂mos誤導通,形成上下臂短路。


所以這個(gè)很考驗設計師的驅動(dòng)電路布線(xiàn)和主回路布線(xiàn)技能。最終就是找個(gè)平衡點(diǎn)(一般開(kāi)通過(guò)程不超過(guò)1us)。開(kāi)通損耗這個(gè)最簡(jiǎn)單,只和導通電阻成正比,想大電流低損耗找內阻低的。


Mos挑選的重要參書(shū)說(shuō)明

以datasheet舉例說(shuō)明:柵極電荷;Qgs, Qgd:

Qgs:指的是柵極從0v充電到對應電流米勒平臺時(shí)總充入電荷(實(shí)際電流不同,這個(gè)平臺高度不同,電流越大,平臺越高,這個(gè)值越大)。這個(gè)階段是給Cgs充電(也相當于Ciss,輸入電容)。


Qgd:指的是整個(gè)米勒平臺的總充電電荷(在這稱(chēng)為米勒電荷)。這個(gè)過(guò)程給Cgd(Crss,這個(gè)電容隨著(zhù)gd電壓不同迅速變化)充電。


開(kāi)關(guān)過(guò)沖中,mos主要發(fā)熱區間是粗紅色標注的階段。從Vgs開(kāi)始超過(guò)閾值電壓,到米勒平臺結束是主要發(fā)熱區間。其中米勒平臺結束后mos基本完全打開(kāi)這時(shí)損耗是基本導通損耗(mos內阻越低損耗越低)。


閾值電壓前,mos沒(méi)有打開(kāi),幾乎沒(méi)損耗(只有漏電流引起的一點(diǎn)損耗)。其中又以紅色拐彎地方損耗最大(Qgs充電將近結束,快到米勒平臺和剛進(jìn)入米勒平臺這個(gè)過(guò)程發(fā)熱功率最大(更粗線(xiàn)表示)。


所以一定充電電流下,紅色標注區間總電荷小的管子會(huì )很快度過(guò),這樣發(fā)熱區間時(shí)間就短,總發(fā)熱量就低。所以理論上選擇Qgs和Qgd小的mos管能快速度過(guò)開(kāi)關(guān)區。


導通內阻:Rds(on);這個(gè)耐壓一定情況下是越低越好。不過(guò)不同廠(chǎng)家標的內阻是有不同測試條件的。測試條件不同,內阻測量值會(huì )不一樣。同一管子,溫度越高內阻越大(這是硅半導體材料在mos制造工藝的特性,改變不了,能稍改善)。所以大電流測試內阻會(huì )增大(大電流下結溫會(huì )顯著(zhù)升高),小電流或脈沖電流測試,內阻降低(因為結溫沒(méi)有大幅升高,沒(méi)熱積累)。


有的管子標稱(chēng)典型內阻和你自己用小電流測試幾乎一樣,而有的管子自己小電流測試比標稱(chēng)典型內阻低很多(因為它的測試標準是大電流)。當然這里也有廠(chǎng)家標注不嚴格問(wèn)題,不要完全相信。所以選擇標準是:找Qgs和Qgd小的mos管,并同時(shí)符合低內阻的mos管。


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