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超結MOS管,MOS管-MOS管與超結MOS管的區別及超結MOS管應用領(lǐng)域介紹-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2018-07-18 

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超結型MOS管工作原理

1:關(guān)端狀態(tài)

垂直導電N+區夾在兩邊的P區中間,當MOS關(guān)斷時(shí),也就是G極的電壓為0時(shí),橫向形成兩個(gè)反向偏置的PN結:P和垂直導電N+、P+和外延epi層N-。柵極下面的的P區不能形成反型層產(chǎn)生導電溝道,左邊P和中間垂直導電N+形成PN結反向偏置,右邊P和中間垂直導電N+形成PN結反向偏置,PN結耗盡層增大,并建立橫向水平電場(chǎng)。

當中間的N+的滲雜濃度和寬度控制得合適,就可以將中間的N+完全耗盡,這樣在中間的N+就沒(méi)有自由電荷,相當于本征半導體,中間的橫向電場(chǎng)極高,只有外部電壓大于內部的橫向電場(chǎng),才能將此區域擊穿,所以,這個(gè)區域的耐壓極高,遠大于外延層的耐壓,功率MOSFET管的耐壓主要由外延層來(lái)決定。

2:開(kāi)通狀態(tài)

當G極加上驅動(dòng)電壓時(shí),在G極的表面將積累正電荷,同時(shí),吸引P區的電子到表面,將P區表面空穴中和,在柵極下面形成耗盡層,如圖5示。隨著(zhù)G極的電壓提高,柵極表面正電荷增強,進(jìn)一步吸引P區電子到表面,這樣,在G極下面的P型的溝道區中,積累負電荷,形成N型的反型層,同時(shí),由于更多負電荷在P型表面積累,一些負電荷將擴散進(jìn)入原來(lái)完全耗盡的垂直的 N+,橫向的耗盡層越來(lái)越減小,橫向的電場(chǎng)也越來(lái)越小。G極的電壓進(jìn)一步提高,P區更寬范圍形成N型的反型層,最后,N+區域回到原來(lái)的高滲雜的狀態(tài),這樣,就形成的低導通電阻的電流路徑。另外還有一種介于平面和超結型結構中間的類(lèi)型,是AOS開(kāi)發(fā)的一種專(zhuān)利結構,雖然電流密度低于超結型,但抗大電流沖擊能力非常優(yōu)異。

超結型MOS管介紹

降低高壓MOS管導通電阻的原理與方法

1、不同耐壓的MOS管的導通電阻分布。不同耐壓的MOS管,其導通電阻中各部分電阻比例分布也不同。如耐壓30V的MOS管,其外延層電阻僅為總導通電阻的29%,耐壓600V的MOS管的外延層電阻則是總導通電阻的96.5%。由此可以推斷耐壓800V的MOS管的導通電阻將幾乎被外延層電阻占據。欲獲得高阻斷電壓,就必須采用高電阻率的外延層,并增厚。這就是常規高壓MOS管結構所導致的高導通電阻的根本原因。

2、降低高壓MOS管導通電阻的思路。增加管芯面積雖能降低導通電阻,但成本的提高所付出的代價(jià)是商業(yè)品所不允許的。引入少數載流以上兩種辦法不能降低高壓MOS管的導通電阻,所剩的思路就是如何將阻斷高電壓的低摻雜、高電阻率區域和導電通道的高摻雜、低電阻率分開(kāi)解決。如除導通時(shí)低摻雜的高耐壓外延層對導通電阻只能起增大作用外并無(wú)其他用途。這樣,是否可以將導電通道以高摻雜較低電阻率實(shí)現,而在MOS管關(guān)斷時(shí),設法使這個(gè)通道以某種方式夾斷,使整個(gè)器件耐壓僅取決于低摻雜的N-外延層?;谶@種思想,1988年INFINEON推出內建橫向電場(chǎng)耐壓為600V的COOLMOS管,使這一想法得以實(shí)現。內建橫向電場(chǎng)的高壓MOS管的剖面結構及高阻斷電壓低導通電阻的示意圖如圖所示。

與常規MOS管結構不同,內建橫向電場(chǎng)的MOS管嵌入垂直P(pán)區將垂直導電區域的N區夾在中間,使MOS管關(guān)斷時(shí),垂直的P與N之間建立橫向電場(chǎng),并且垂直導電區域的N摻雜濃度高于其外延區N-的摻雜濃度。

VGS<VTH時(shí),由于被電場(chǎng)反型而產(chǎn)生的N型導電溝道不能形成,并且D,S間加正電壓,使MOS管內部PN結反偏形成耗盡層,并將垂直導電的N區耗盡。這個(gè)耗盡層具有縱向高阻斷電壓,如圖(b)所示,這時(shí)器件的耐壓取決于P與N-的耐壓。因此N-的低摻雜、高電阻率是必需的。

MOS管與超結MOS管區別當CGS>VTH時(shí),被電場(chǎng)反型而產(chǎn)生的N型導電溝道形成。源極區的電子通過(guò)導電溝道進(jìn)入被耗盡的垂直的N區中和正電荷,從而恢復被耗盡的N型特性,因此導電溝道形成。由于垂直N區具有較低的電阻率,因而導通電阻較常規MOS管將明顯降低。

通過(guò)以上分析可以看到:阻斷電壓與導通電阻分別在不同的功能區域。將阻斷電壓與導通電阻功能分開(kāi),解決了阻斷電壓與導通電阻的矛盾,同時(shí)也將阻斷時(shí)的表面PN結轉化為掩埋PN結,在相同的N-摻雜濃度時(shí),阻斷電壓還可進(jìn)一步提高。

這些就是常規MOS管和COOLMOS管即本公司超結MOS管的不同之處,這里我也不過(guò)多的說(shuō)超結MOS管有多好了,因為這兩種MOS管的用途不一樣,可以說(shuō)是各有千秋啦,尺有所短寸有所長(cháng)嘛。

超結MOS管產(chǎn)品特征

我們公司設計的超結MOS管是用先進(jìn)的耐壓原理和有話(huà)的設計結構,全新600V-900V系列產(chǎn)品為系統應用提供充足的耐壓余量,簡(jiǎn)化系統設計難度,提高系統可靠性。滿(mǎn)足客戶(hù)對高耐壓、低導通電阻和高效率超結MOS管的需求。

我們公司超結MOS管的主要特點(diǎn)是:

1:更耐壓偉系統設計和應用提宮更充足余量

2:更低的導通電壓,利于降低導通損耗

3:極低的柵極電荷,提供更快的開(kāi)關(guān)速度

4:同規格下更小的封裝體積,使系統更輕便

5:雪崩能力測試,確保產(chǎn)品質(zhì)量可靠

MOS管工作原理

MOS管的工作原理(以N溝道增強型MOS場(chǎng)效應管)它是利用VGS來(lái)控制“感應電荷”的多少,以改變由這些“感應電荷”形成的導電溝道的狀況,然后達到控制漏極電流的目的。在制造管子時(shí),通過(guò)工藝使絕緣層中出現大量正離子,故在交界面的另一側能感應出較多的負電荷,這些負電荷把高滲雜質(zhì)的N區接通,形成了導電溝道,即使在VGS=0時(shí)也有較大的漏極電流ID。當柵極電壓改變時(shí),溝道內被感應的電荷量也改變,導電溝道的寬窄也隨之而變,因而漏極電流ID隨著(zhù)柵極電壓的變化而變化。(插圖)

MOS管與超結MOS管區別

MOS管結構

MOSFET管是FET的一種(另一種是JFET),能夠被制形成加強型或耗盡型,P溝道或N溝道共4品種型,但實(shí)踐應用的只要加強型的N溝道MOS管和加強型的P溝道MOS管,所以通常提到NMOS,或者PMOS指的就是這兩種。至于為什么不運用耗盡型的MOS管,不提倡尋根究底。關(guān)于這兩種加強型MOS管,比擬常用的是NMOS.緣由是導通電阻小,且容易制造。所以開(kāi)關(guān)電源和馬達驅動(dòng)的應用中,普通都用NMOS下面的引見(jiàn)中,也多以NMOS為主。

MOS管的三個(gè)管腳之間有寄生電容存在,這不是我們需求的,而是由于制造工藝限制產(chǎn)生的。寄生電容的存在使得在設計或選擇驅動(dòng)電路的時(shí)分要費事一些,但沒(méi)有方法防止,后邊再細致引見(jiàn)。在MOS管原理圖上能夠看到,漏極和源極之間有一個(gè)寄生二極管。這個(gè)叫體二極管,在驅動(dòng)理性負載(如馬達),這個(gè)二極管很重要。順便說(shuō)一句,體二極管只在單個(gè)的MOS管中存在,在集成電路芯片內部通常是沒(méi)有的。



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