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應(yīng)用領(lǐng)域

碳化硅管,碳化硅器件,碳化硅半導(dǎo)體-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2023-09-22 

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碳化硅管,碳化硅器件,碳化硅半導(dǎo)體-KIA MOS管


關(guān)于碳化硅

碳化硅是由美國(guó)人艾奇遜在1891年電熔金剛石實(shí)驗(yàn)時(shí),在實(shí)驗(yàn)室偶然發(fā)現(xiàn)的一種碳化物;碳化硅,是一種無機(jī)物,化學(xué)式為SiC,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料通過電阻爐高溫冶煉而成。


碳化硅由于化學(xué)性能穩(wěn)定、導(dǎo)熱系數(shù)高、熱膨脹系數(shù)小、耐磨性能好,除作磨料用外,還有很多其他用途例如:以特殊工藝把碳化硅粉未涂布于水輪機(jī)葉輪或汽缸體的內(nèi)壁,可提高其耐磨性而延長(zhǎng)使用壽命1~2倍。


碳化硅管特點(diǎn)、用途

碳化硅管是一種特殊的管道材料,廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。碳化硅管具有強(qiáng)度高、硬度高、耐磨性好、耐高溫、耐腐蝕、抗熱抗震性好、導(dǎo)熱系數(shù)大以及抗氧化性好等優(yōu)越性能。長(zhǎng)度標(biāo)準(zhǔn)可根據(jù)實(shí)際需求定做。


碳化硅管的一個(gè)主要用途是作為高溫管道。由于碳化硅管的材料本身就具有耐高溫的特性,因此它可以被用于熔融金屬、熔融鹽以及高溫氣體的輸送。這使得碳化硅管成為鋁生產(chǎn)、玻璃制造和太陽能光電行業(yè)的理想選擇。


碳化硅管還有用于化工領(lǐng)域。由于碳化硅管化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不會(huì)受到酸、堿等化學(xué)物質(zhì)的腐蝕,因此它可以應(yīng)用于化工設(shè)備和管道中。這使得碳化硅管成為化工行業(yè)的重要工業(yè)管道材料之一”。


另外,碳化硅管的高硬度、高抗腐蝕和耐磨損等特性,促使其成為機(jī)械工業(yè)中材料選項(xiàng)之一。它可以用于礦石輸送管道、高速運(yùn)動(dòng)零件以及其他需要耐磨損的場(chǎng)合。


碳化硅器件

在半導(dǎo)體器件中,碳化硅材料具有低熱導(dǎo)率、高擊穿電場(chǎng)、高電子飽和漂移速度和高電子遷移率等優(yōu)異特性,因此碳化硅半導(dǎo)體器件是目前綜合性能最好的半導(dǎo)體器件之一。


低導(dǎo)通電阻:在同樣功率下的碳化硅場(chǎng)效應(yīng)晶體管比同等尺寸的硅器件小約一半;


低噪聲:由于碳化硅場(chǎng)效應(yīng)晶體管的高頻噪聲比傳統(tǒng)硅低2個(gè)數(shù)量級(jí),因此能夠滿足未來更高分辨率和更小尺寸對(duì)超高分辨率和更高頻率要求。


超高耐壓能力:在相同條件下,碳化硅晶體管可承受更高的電壓波動(dòng)范圍;


高效散熱設(shè)計(jì)原則:當(dāng)工作在高溫或高頻時(shí),碳化硅場(chǎng)效應(yīng)器件散熱能力最強(qiáng)。


碳化硅半導(dǎo)體(SiC)

第三代半導(dǎo)體為寬禁帶材料:主要為碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氮化鋁(AIN)、金剛石(C)、氧化鋅(ZnO)等,是新能源、光伏、電力電子方面的主要材料,主要應(yīng)用于高溫、高頻、抗輻射、大功率器件;同時(shí)應(yīng)用于藍(lán)、綠、紫發(fā)光二極管、半導(dǎo)體激光器等。近些年,世界各國(guó)均在陸續(xù)布局、產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程加速崛起。


碳化硅(SiC)作為第三代半導(dǎo)體材料的核心,主要用于功率+射頻器件,適用于600V以上的高壓場(chǎng)景,包括光伏、新能源汽車、充電樁、風(fēng)電、軌道交通等等電力電子領(lǐng)域。

碳化硅管,碳化硅器件,碳化硅半導(dǎo)體


碳化硅管,碳化硅器件,碳化硅半導(dǎo)體

SiC功率器件具有更高的開關(guān)速度和更寬的輸出頻率。SiC功率芯片主要由 MOSFET和 PN結(jié)組成。


碳化硅(SiC)是制作高溫高頻、大功率高壓器件的理想材料之一。主要由硅元素和碳元素組合而成的一種化合物半導(dǎo)體材料。同第一代半導(dǎo)體材料硅(Si)相比,其禁帶寬度是硅(Si)的3倍;擊穿電壓為其8-10倍;導(dǎo)熱率是其4-5倍;電子飽和漂移速率為硅的2-3倍。在耐高壓、耐高頻、耐高溫方面,具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。


耐高壓特征:阻抗更低,禁帶寬度更寬,能承受更大的電流和電壓,帶來更小尺寸的產(chǎn)品設(shè)計(jì)和更好效率;


耐高頻特征:不存在電流拖尾現(xiàn)象,能夠提高元件的開關(guān)速度,是硅(Si)開關(guān)速度的3-10倍,從而適用于更高頻率和更快的開關(guān)速度;


耐高溫特征:碳化硅(SiC)擁有非常高的導(dǎo)熱率,相較硅(Si)來講,能在更高的溫度下工作。


隨著國(guó)家新能源政策導(dǎo)向下對(duì)光伏發(fā)電的大力支持以及碳化硅的優(yōu)勢(shì)日益明顯,碳化硅半導(dǎo)體器件受到了越來越多科技工作者和企業(yè)人士的關(guān)注。


碳化硅(SiC)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括了上游襯底、外延環(huán)節(jié);中游的器件和模塊制造環(huán)節(jié);下游的應(yīng)用環(huán)節(jié)。

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1、襯底:價(jià)值量最高,約為46%,是最為核心的環(huán)節(jié)。由碳化硅(SiC)粉經(jīng)過長(zhǎng)晶、加工、切割、研磨、拋光、清洗環(huán)節(jié)最終形成襯底。其中碳化硅(SiC)晶體的生長(zhǎng)為核心工藝,核心難點(diǎn)在提升良品率。類型可分為導(dǎo)電型、半絕緣型襯底,分別用于功率和射頻器件領(lǐng)域。


2、外延:價(jià)值量占比約23%。在襯底上面再覆蓋一層薄膜以滿足器件生產(chǎn)條件。其中導(dǎo)電型碳化硅(SiC)襯底用于碳化硅(SiC)外延,生產(chǎn)功率器件用于電動(dòng)汽車和新能源領(lǐng)域。半絕緣型碳化硅(SiC)襯底用于氮化鎵外延,生產(chǎn)射頻器件用于5G通信等領(lǐng)域。


3、器件制造:價(jià)值量占比約20%(包括了設(shè)計(jì)、制造、封裝環(huán)節(jié))。產(chǎn)品包括了碳化硅(SiC)二極管、碳化硅(SiC)MOSFET、全碳化硅(SiC)模塊、碳化硅(SiC)混合模塊。


4、應(yīng)用:導(dǎo)電型碳化硅器件主要用于電動(dòng)汽車、光伏、軌道交通、充電樁等;半絕緣碳化硅器件主要5G通信、數(shù)據(jù)傳輸、航空航天、國(guó)防軍工等等。

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SiC MOSFET具有高溫、高頻、高效等優(yōu)異特性,在高頻功率器件,高壓大電流場(chǎng)合等應(yīng)用中具有很大優(yōu)勢(shì)。


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