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開(kāi)關(guān)損耗測(cè)試在電源調(diào)試中的重要作用-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2023-01-11 

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開(kāi)關(guān)損耗測(cè)試在電源調(diào)試中的重要作用-KIA MOS管


MOSFET/IGBT的開(kāi)關(guān)損耗測(cè)試是電源調(diào)試中非常關(guān)鍵的環(huán)節(jié)。開(kāi)關(guān)電源(SMPS)技術(shù)依托電源半導(dǎo)體開(kāi)關(guān)設(shè)備,如金屬氧化物場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)和絕緣門(mén)雙極晶體管(IGBT)。這些設(shè)備提供了快速開(kāi)關(guān)時(shí)間,能夠耐受沒(méi)有規(guī)律的電壓峰值。


同樣重要的是,其在 On 狀態(tài)或 Off 狀態(tài)下消耗的功率非常小,實(shí)現(xiàn)了很高的效率,而生成的熱量很低。開(kāi)關(guān)設(shè)備在極大程度上決定著 SMPS 的整體性能。開(kāi)關(guān)設(shè)備的關(guān)鍵測(cè)量項(xiàng)目包括開(kāi)關(guān)損耗、平均功率損耗等等。


功率損耗的原理圖和實(shí)測(cè)圖

一般來(lái)說(shuō),開(kāi)關(guān)管工作的功率損耗原理圖如圖1所示,主要的能量損耗體現(xiàn)在“導(dǎo)通過(guò)程”和“關(guān)閉過(guò)程”,小部分能量體現(xiàn)在“導(dǎo)通狀態(tài)”,而關(guān)閉狀態(tài)的損耗很小幾乎為0,可以忽略不計(jì)。


開(kāi)關(guān)損耗 測(cè)試

圖1 開(kāi)關(guān)管工作的功率損耗原理圖


實(shí)際的測(cè)量波形圖結(jié)果一般如圖2所示。

開(kāi)關(guān)損耗 測(cè)試

圖2 開(kāi)關(guān)管實(shí)際功率損耗測(cè)試


MOSFET和PFC MOSFET的測(cè)試區(qū)別

對(duì)于普通MOS管來(lái)說(shuō),不同周期的電壓和電流波形幾乎完全相同,因此整體功率損耗只需要任意測(cè)量一個(gè)周期即可。


但對(duì)于PFC MOS管來(lái)說(shuō),不同周期的電壓和電流波形都不相同,因此功率損耗的準(zhǔn)確評(píng)估依賴(lài)較長(zhǎng)時(shí)間(一般大于100ms),較高采樣率(推薦1G采樣率)的波形捕獲,此時(shí)需要的存儲(chǔ)深度推薦在10M以上,并且要求所有原始數(shù)據(jù)(不能抽樣)都要參與功率損耗計(jì)算,實(shí)測(cè)截圖如圖3所示。


開(kāi)關(guān)損耗 測(cè)試

圖3 PFC MOSFET功率損耗實(shí)測(cè)截圖



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