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vdmos結構原理及特點(diǎn)-LDMOS與VDMOS比較分析-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2019-11-06 

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vdmos結構原理及特點(diǎn)-LDMOS與VDMOS比較分析

vdmos介紹

vdmos結構原理是本文要講述的,80年代以來(lái),迅猛發(fā)展的超大規模集成電路技術(shù)給高壓大電流半導體注入了新的活力,一批新型的聲控功放器件誕生了,其中最有代表性的產(chǎn)品就是VDMOS聲效應功率晶體管。


這種電流垂直流動(dòng)的雙擴散MOS器件是電壓控制型器件。在合適的柵極電壓的控制下,半導體表面反型,形成導電溝道,于是漏極和源極之間流過(guò)適量的電流,VDMOS兼有雙極晶體管和普通MOS器件的優(yōu)點(diǎn)。與雙極晶體管相比,它的開(kāi)關(guān)速度,開(kāi)關(guān)損耗小;輸入阻抗高,驅動(dòng)功率小;頻率特性好;跨導高度線(xiàn)性。


特別值得指明出的是,它具有負的溫度系數,沒(méi)有雙極功率的二次穿問(wèn)題,安全工作出了區大。因此,不論是開(kāi)關(guān)應用還是線(xiàn)性應用,VDMOS都是理想的功率器件。


現在,VDMOS器件已廣泛應用于各種領(lǐng)域,包括電機調速、逆變器、不間熠電源、開(kāi)關(guān)電源、電子開(kāi)關(guān)、高保真音響、汽車(chē)電器和電子鎮流器等。由于VDMOS的性能價(jià)格比已優(yōu)于比極功率器件,它在功率器件市聲中的份額已達42%。并將繼續上升。


vdmos結構原理解析

vdmos結構

VDMOS兼有雙極晶體管和普通MOS器件的優(yōu)點(diǎn),無(wú)論是開(kāi)關(guān)應用還是線(xiàn)形應用,VDMOS都是理想的功率器件,VDMOS主要應用于電機調速、逆變器、不間斷電源、電子開(kāi)關(guān)、高保真音響、汽車(chē)電器和電子鎮流器等。


VDMOS接近無(wú)限大的靜態(tài)輸入阻抗特性,非常快的開(kāi)關(guān)時(shí)間,導通電阻正溫度系數,近似常數的跨導, 高dV/dt。


vdmos結構原理


vdmos結構原理-vdmos的特點(diǎn)

1、用柵極電壓來(lái)控制漏極電流

2、驅動(dòng)電路簡(jiǎn)單,需要的驅動(dòng)功率小

3、開(kāi)關(guān)速度快,工作頻率高

4、熱穩定性?xún)?yōu)于GTR

5、電流容量小,耐壓低,一般只適用于功率不超過(guò)10kW的電力電子裝置


LDMOS與VDMOS比較

縱向雙擴散器件 VDMOS(Vertical Double-diffused Metal Oxide Semiconductor)和橫向雙擴散器件 LDMOS(Lateral Double-diffused MOSFET)是高壓MOS發(fā)展過(guò)程中的兩種主要結構。


導通電阻小和版圖面積小是 VDMOS 的主要優(yōu)點(diǎn);但由于它是縱向結構,與低壓 CMOS 電路的兼容性較差;為了提升其兼容性,通常在漂移區下面放置一埋層,然后將漏電流傳輸到硅表面,但同時(shí)也帶來(lái)了缺點(diǎn):增加了成本,并且工藝也變得復雜,故對兼容性要求較高的高低壓集成電路中,VDMOS 使用得很少。


而作為平面結構的LDMOS與大規模集成電路的兼容性非常好,且工藝簡(jiǎn)單,易于實(shí)現,性能穩定,因此,在高低壓兼容的集成電路中得到了廣泛的運用,例如 LDMOS作為HDTV的PDP顯示屏和汽車(chē)電子的高壓功率放大器件。為了實(shí)現高壓和大電流,LDMOS 版圖面積大,芯片成本高,而導通電阻與擊穿電壓之間的折衷卻是其最大的缺點(diǎn)。


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