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解析MOS管電子元器件現狀與面臨如何挑戰 MOS管發(fā)展趨勢-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2019-04-26 

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MOS管現狀與挑戰

MOS管概述

mos管是金屬(metal)、氧化物(oxide)、半導體(semiconductor)場(chǎng)效應晶體管,或者稱(chēng)是金屬—絕緣體(insulator)、半導體。MOS管的source和drain是可以對調的,他們都是在P型backgate中形成的N型區。在多數情況下,這個(gè)兩個(gè)區是一樣的,即使兩端對調也不會(huì )影響器件的性能。這樣的器件被認為是對稱(chēng)的。

MOS管把輸入電壓的變化轉化為輸出電流的變化。FET的增益等于它的跨導, 定義為輸出電流的變化和輸入電壓變化之比。市面上常有的一般為N溝道和P溝道,詳情參考右側圖片(P溝道耗盡型MOS管)。而P溝道常見(jiàn)的為低壓mos管。


MOS管器件的現狀及面臨挑戰發(fā)展趨勢


根據IHS及Gartner的相關(guān)統計,功率MOSFET占據約40%的全球功率器件市場(chǎng)規模。

MOS管現狀與挑戰


MOSFET全稱(chēng)Metal-Oxide-SemiconductorField-Effect Transistor,中文名為金屬-氧化物半導體場(chǎng)效應晶體管,簡(jiǎn)稱(chēng)金氧半場(chǎng)效晶體管或MOS管,是一種可以廣泛使用在模擬電路與數字電路的場(chǎng)效晶體管。而功率MOSFET則指處于功率輸出級的MOSFET器件,通常工作電流大于1A。


由于功率器件的分類(lèi)方式非常多樣,且各分類(lèi)方式的分類(lèi)邏輯并不存在上下包含的關(guān)系,因此在這里我們從驅動(dòng)方式、可控性、載流子類(lèi)型這三個(gè)分類(lèi)維度將功率MOSFET定義為電壓驅動(dòng)的全控式單極型功率器件。


MOS管現狀與挑戰


可以發(fā)現,功率MOSFET的電壓驅動(dòng)、全控式和單極型特性決定了其在功率器件中的獨特定位:工作頻率相對最快、開(kāi)關(guān)損耗相對最小,但導通與關(guān)斷功耗相對較高、電壓與功率承載能力相對較弱。


因此功率MOSFET會(huì )在兩個(gè)領(lǐng)域中作為主流的功率器件:1.要求的工作頻率高于其他功率器件所能實(shí)現的最高頻率的領(lǐng)域,目前這個(gè)最高頻率大概是70kHz,在這個(gè)領(lǐng)域中功率MOSFET成為了唯一的選擇,代表性下游應用包括變頻器、音頻設備等。2.要求工作頻率在10kHz到70kHz之間,同時(shí)要求輸出功率小于5kW的領(lǐng)域,在這個(gè)領(lǐng)域的絕大多數情況下,盡管IGBT與功率MOSFET都能實(shí)現相應的功能,但功率MOSFET往往憑借更低的開(kāi)關(guān)損 耗(高頻條件下開(kāi)關(guān)損耗的功耗占比更大)、更小的體積以及相對較低的成本成為優(yōu)先選擇,代表性的下游應用包括液晶電視板卡、電磁爐等。


MOS管現狀與挑戰


寬禁帶半導體材料迭代引領(lǐng)功率MOSFET性能演進(jìn)

根據載流子種類(lèi)與摻雜方式,MOSFET可以被分為4種類(lèi)型:N溝道增強型、N溝道耗盡型、P溝道增強型、P溝道耗盡型。


MOS管現狀與挑戰


由于功率MOSFET往往追求高頻率與低功耗,且多用作開(kāi)關(guān)器件,因此N溝道增強型是絕大多數功率MOSFET的選擇。


MOS管現狀與挑戰


功率MOSFET自1976年誕生以來(lái),不斷面對著(zhù)社會(huì )電氣化程度的提高所帶來(lái)的對于功率半導體的更高性能需求。對于功率MOSFET而言,主要的性能提升方向包括三個(gè)方面:更高的頻率、更高的輸出功率以及更低的功耗。

為了實(shí)現更高的性能指標,功率MOSFET主要經(jīng)歷了制程縮小、技術(shù)變化、工藝進(jìn)步與材料迭代這4個(gè)層次的演進(jìn)過(guò)程,其中由于功率MOSFET更需要功率處理能力而非運算速度,因此制程縮小這一層次的演進(jìn)已在2000年左右基本上終結了,但其他的3個(gè)層次的演進(jìn)仍在幫助功率MOSFET不斷追求著(zhù)更高的功率密度與更低的功耗。


MOS管現狀與挑戰


目前,市面上的主流功率MOSFET類(lèi)型主要包括:由于技術(shù)變化形成的內部結構不同的Planar、Trench、Lateral、SuperJunction、Advanced Trench以及由于材料迭代形成的半導體材料改變的SiC、GaN。其中盡管材料迭代與技術(shù)變化屬于并行關(guān)系,比如存在GaN Lateral MOSFET,但就目前而言,由于寬禁帶半導體仍處于初步發(fā)展階段,所有面世的寬禁帶MOSFET的性能主要由材料性能決定,因此將所有不同結構的GaN MOSFET和SiC MOSFET 分別歸為一個(gè)整體。


MOS管現狀與挑戰


受益于世界的電動(dòng)化、信息化以及對用電終端性能的更高追求,預計2022年功率MOSFET全球市場(chǎng)規??蛇_億85美元

在《總覽》中我們提到,功率半導體行業(yè)是一個(gè)需求驅動(dòng)型的行業(yè),因此功率MOSFET行業(yè)的市場(chǎng)空間主要源于對功率器件的需求為10kHz以上的工作頻率以及5kW以下的輸出功率的行業(yè)的市場(chǎng)空間。


MOS管現狀與挑戰


而這8個(gè)行業(yè)的主要增長(cháng)動(dòng)力,又主要源于三個(gè)趨勢:電動(dòng)化趨勢、信息化趨勢以及對用電終端性能的更高追求趨勢。


電動(dòng)化趨勢主要影響汽車(chē)電子以及工業(yè)這兩個(gè)行業(yè),汽車(chē)行業(yè)的電動(dòng)化無(wú)疑是當今世界電動(dòng)化最顯著(zhù)的一個(gè)特征,這既源于汽車(chē)行業(yè)每年全球近1億量的產(chǎn)銷(xiāo)量規模,也源自于汽車(chē)電動(dòng)化后3-4倍的功率半導體用量規模增長(cháng);而工業(yè)則主要因為電動(dòng)化帶來(lái)整體用電量的提升,從而帶動(dòng)包括電源、太陽(yáng)能逆變器等電力傳輸領(lǐng)域行業(yè)的增長(cháng)。


信息化趨勢主要影響無(wú)線(xiàn)設備、計算存儲以及網(wǎng)絡(luò )通訊這三個(gè)行業(yè),就未來(lái)世界的趨勢而言,無(wú)論是物聯(lián)網(wǎng)或是AI,本質(zhì)上都離不開(kāi)更大程度上數據的收集、計算與傳輸,而數據量的增加,必將帶來(lái)用電量與用電設備的增加,從而提高在這些設備中會(huì )被主要使用的功率MOSFET的市場(chǎng)空間。


對用電終端性能的更高追求趨勢則主要影響音畫(huà)設備、家用電器以及醫療設備這三個(gè)行業(yè)。所謂對用電終端性能的更高追求,包括更高的音畫(huà)質(zhì)、變頻降噪等舒適感需求以及更精準多樣的醫療設備檢測等。以對電腦畫(huà)質(zhì)更高的要求為例,更高的電腦畫(huà)質(zhì)需求更高運算速度的GPU和更多的顯存,更高運算速度的GPU和更多的顯存又自然需求更多相的供電來(lái)驅動(dòng)其穩定工作,而每一相供電都需要2-4個(gè)功率MOSFET。


MOS管現狀與挑戰


益于電動(dòng)化、信息化以及對用電終端性能的更高追求帶來(lái)的新增市場(chǎng)以及供需格局帶來(lái)的價(jià)格變化,結合IHS、Yole Développement的相關(guān)測算,我們預計功率MOSFET市場(chǎng)在2018年將略高于2017年12%左右的增長(cháng)速度達到13%,在2019年由于挖礦機、智能手機等下游行業(yè)的需求不振維持市場(chǎng)規模不變,在2020年以后由于物聯(lián)網(wǎng)、AI、5G等信息產(chǎn)業(yè)的興起回升至4%的年化增長(cháng)速度,至2022年實(shí)現約85億美元的市場(chǎng)規模,對應的復合年增長(cháng)率為4.87%。

長(cháng)期來(lái)看,恒逐峰者可覽眾山


低端控本高端重質(zhì),生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程決定功率MOSFET不同層次

盡管功率半導體長(cháng)遠追求更高的功率密度以及更低的功耗,不同種類(lèi)的功率MOSFET的市場(chǎng)地位與利潤空間卻并不完全由功率密度的高低與功耗的多少決定。比如Lateral型的功率MOSFET盡管屬于比較早期被研發(fā)成功的功率MOSFET,且存在耐壓低功率密度難以提升的缺陷,但利潤率一直較高。


有兩個(gè)原因造成了目前的這種局面:1.功率半導體行業(yè)的整體發(fā)展方向是提高功率密度、降低功耗,但如果細化到某一個(gè)指標,比如工作頻率時(shí),后研發(fā)的Super Junction等類(lèi)型的功率MOSFET并不比Lateral型更有優(yōu)勢;2.只有滿(mǎn)足了下游行業(yè)特定性能需求的兩種MOSFET才能形成替代,因此無(wú)法替代的Lateral型在市場(chǎng)地位中與技術(shù)更為先進(jìn)的Super Junction等類(lèi)型比肩,獲得更高的超額利潤。


由于功率半導體是一個(gè)需求驅動(dòng)型的行業(yè),因此,在將各類(lèi)型的功率MOSFET分層來(lái)討論未來(lái)的結構趨勢時(shí),我們更傾向于通過(guò)生產(chǎn)商與下游的關(guān)系將不同的功率MOSFET比較抽象地分為低端、中端和高端,而不依據功率密度的大小或功耗的多少來(lái)劃分。


MOS管現狀與挑戰


一般來(lái)說(shuō),低端層次的功率MOSFET所滿(mǎn)足的性能要求相對較低、容易達到,且這種MOSFET面臨著(zhù)無(wú)從繼續進(jìn)行生產(chǎn)工藝演進(jìn),或者對這種MOSFET進(jìn)行生產(chǎn)工藝演進(jìn)帶來(lái)的成本超過(guò)了其相對于更先進(jìn)MOSFET的使用成本優(yōu)勢。

對應到生產(chǎn)商的層面,我們認為該層次的功率MOSFET領(lǐng)先生產(chǎn)廠(chǎng)商生產(chǎn)工藝演進(jìn)已經(jīng)停止,絕大多數市場(chǎng)參與者的產(chǎn)品性能差異性小,此時(shí)價(jià)格成為下游廠(chǎng)商選擇產(chǎn)品的主要原因。


中端層次的功率MOSFET所滿(mǎn)足的性能要求適中,想要生產(chǎn)出相應性能的功率MOSFET具有一定的難度,對這種MOSFET進(jìn)行生產(chǎn)工藝演進(jìn)帶來(lái)的成本低于其相對于更先進(jìn)MOSFET的使用成本優(yōu)勢或并不存在更先進(jìn)的MOSFET可選方案。

對應到生產(chǎn)商的層面,我們認為該層次的MOSFET領(lǐng)先生產(chǎn)廠(chǎng)商生產(chǎn)工藝演進(jìn)仍在繼續但已處于中后階段,演進(jìn)速度顯著(zhù)放緩,生產(chǎn)工藝演進(jìn)積累各不相同的生產(chǎn)商產(chǎn)品性能存在一定的差異,此時(shí)下游廠(chǎng)商首先根據自己所需求的產(chǎn)品性能來(lái)選擇生產(chǎn)商名錄,其次再綜合考慮價(jià)格、供貨量等因素。


高端層次的功率MOSFET所滿(mǎn)足的性能要求高,想要生產(chǎn)出相應性能的功率MOSFET存在較高的技術(shù)壁壘,并不存在更先進(jìn)的MOSFET可選方案。

對應到生產(chǎn)商的層面,我們認為該層次的MOSFET領(lǐng)先生產(chǎn)廠(chǎng)商剛剛開(kāi)啟生產(chǎn)工藝演進(jìn),演進(jìn)速度較快,僅有領(lǐng)先廠(chǎng)商能夠生產(chǎn)該層次的MOSFET,此時(shí)下游廠(chǎng)商更為關(guān)注自己所需求的產(chǎn)品性能,對價(jià)格的敏感度較低。


因此我們認為,上下游與不同功率MOSFET的不同關(guān)系,本質(zhì)上是由于生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程(等價(jià)于該MOSFET領(lǐng)先廠(chǎng)商的生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程)的不同而導致的。


其中由于下游廠(chǎng)商不同的選擇標準,各類(lèi)MOSFET部門(mén)的核心競爭力也各不相同。對于低端功率MOSFET部門(mén)而言,由于下游廠(chǎng)商僅關(guān)注價(jià)格,成本控制能力成為核心競爭力;對于高端功率MOSFET生產(chǎn)部門(mén)而言,自然高品質(zhì)產(chǎn)品的生產(chǎn)能力成為核心競爭力;而對于中端功率MOSFET部門(mén)而言則比較復雜,由于價(jià)格和性能對于不同下游廠(chǎng)商的重要性動(dòng)態(tài)變化,在產(chǎn)品性能與價(jià)格均具備一定市場(chǎng)競爭力的前提下,渠道能力決定了企業(yè)能找到多少與自身產(chǎn)品匹配的下游客戶(hù),從而決定了營(yíng)收規模,成為核心競爭力。


MOS管現狀與挑戰


長(cháng)遠來(lái)看單類(lèi)MOSFET產(chǎn)品層次會(huì )由高端向低端逐年下移,研發(fā)實(shí)力為功率MOSFET企業(yè)核心競爭力


在前面,我們根據不同功率MOSFET的行業(yè)特性與上下游關(guān)系將功率MOSFET分為了低端、中端和高端三個(gè)層次,并總結了三個(gè)層次分類(lèi)的本質(zhì)原因是由于生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程的不同,以及三個(gè)檔次產(chǎn)品分別的核心競爭力。


但是功率MOSFET產(chǎn)品的核心競爭力與功率MOSFET企業(yè)的核心競爭力存在著(zhù)較大的差別。同樣有兩點(diǎn)原因:1.對于一家功率MOSFET企業(yè),很少有只生產(chǎn)一種層次的功率MOSFET產(chǎn)品。2.單類(lèi)功率MOSFET的層次會(huì )由高端向低端逐年下移。


單類(lèi)功率MOSFET的層次會(huì )逐年下移本質(zhì)上是由于該類(lèi)功率MOSFET的生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程會(huì )逐年成熟,當生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程達到中后期,演進(jìn)速度放緩時(shí),高端層次的功率MOSFET自然下移至中端層次,而當生產(chǎn)工藝演進(jìn)進(jìn)程結束時(shí),中端層次的功率MOSFET自然下移至低端層次。


這兩年的汽車(chē)行業(yè)正好是一個(gè)非常好的觀(guān)察者,由于汽車(chē)行業(yè)非常關(guān)注安全性,因此對零部件的一致性與合格率有著(zhù)非常高的要求,通常一個(gè)合格的產(chǎn)品仍然需要經(jīng)歷1-2年的驗證周期。這就是為什么汽車(chē)行業(yè)對性能要求高,且需求的產(chǎn)品僅能由領(lǐng)先廠(chǎng)商生產(chǎn),但有一部分卻使用的是中端的功率MOSFET的原因——汽車(chē)行業(yè)使用的是從高端層次自然下移至中端層次的功率MOSFET。


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