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P溝道mosfet選型和參數資料及工作原理、工作特性詳解-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2018-09-11 

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p溝道mosfet
P溝道mosfet工作原理

金屬氧化物半導體場(chǎng)效應(MOS)晶體管可分為N溝道與P溝道兩大類(lèi), P溝道硅MOS場(chǎng)效應晶體管在N型硅襯底上有兩個(gè)P+區,分別叫做源極和漏極,兩極之間不通導,柵極上加有足夠的正電壓(源極接地)時(shí),柵極下的N型硅表面呈現P型反型層,成為銜接源極和漏極的溝道。改動(dòng)柵壓可以改動(dòng)溝道中的電子密度,從而改動(dòng)溝道的電阻。這種MOS場(chǎng)效應晶體管稱(chēng)為P溝道增強型場(chǎng)效應晶體管。假設N型硅襯底表面不加柵壓就已存在P型反型層溝道,加上恰當的偏壓,可使溝道的電阻增大或減小。這樣的MOS場(chǎng)效應晶體管稱(chēng)為P溝道耗盡型場(chǎng)效應晶體管。統稱(chēng)為PMOS晶體管。

P溝道mosfet的空穴遷移率低,因而在MOS晶體管的幾何尺寸和工作電壓絕對值相等的情況下,PMOS晶體管的跨導小于N溝道mosfet。此外,P溝道mosfet閾值電壓的絕對值普通偏高,懇求有較高的工作電壓。它的供電電源的電壓大小和極性,與雙極型晶體管——晶體管邏輯電路不兼容。P溝道mosfet因邏輯擺幅大,充電放電過(guò)程長(cháng),加之器件跨導小,所以工作速度更低,在NMOS電路(見(jiàn)N溝道金屬—氧化物—半導體集成電路)呈現之后,多數已為NMOS電路所取代。只是,因PMOS電路工藝簡(jiǎn)單,價(jià)錢(qián)低價(jià),有些中范圍和小范圍數字控制電路仍采用PMOS電路技術(shù)。PMOS的特性,Vgs小于一定的值就會(huì )導通,適宜用于源極接VCC時(shí)的情況(高端驅動(dòng))。但是,固然PMOS可以很便當地用作高端驅動(dòng),但由于導通電阻大,價(jià)錢(qián)貴,交流種類(lèi)少等緣由,在高端驅動(dòng)中,通常還是運用NMOS。

P溝道mosfet

P溝道MOS管工作原理的特性

正常工作時(shí),P溝道增強型MOS管的襯底必需與源極相連,而漏心極的電壓Vds應為負值,以保證兩個(gè)P區與襯底之間的PN結均為反偏,同時(shí)為了在襯底頂表面左近構成導電溝道,柵極對源極的電壓Vgs也應為負。

1.Vds≠O的情況導電溝道構成以后,DS間加負向電壓時(shí),那么在源極與漏極之間將有漏極電流Id流通,而且Id隨Vds而增加.Id沿溝道產(chǎn)生的壓降使溝道上各點(diǎn)與柵極間的電壓不再相等,該電壓削弱了柵極中負電荷電場(chǎng)的作用,使溝道從漏極到源極逐漸變窄.當Vds增大到使Vgd=Vgs(TH),溝道在漏極左近呈現預夾斷.

2.導電溝道的構成(Vds=0)當Vds=0時(shí),在柵源之間加負電壓Vgs,由于絕緣層的存在,故沒(méi)有電流,但是金屬柵極被補充電而聚集負電荷,N型半導體中的多子電子被負電荷排斥向體內運動(dòng),表面留下帶正電的離子,構成耗盡層,隨著(zhù)G、S間負電壓的增加,耗盡層加寬,當Vgs增大到一定值時(shí),襯底中的空穴(少子)被柵極中的負電荷吸收到表面,在耗盡層和絕緣層之間構成一個(gè)P型薄層,稱(chēng)反型層,這個(gè)反型層就構成漏源之間的導電溝道,這時(shí)的Vgs稱(chēng)為開(kāi)啟電壓Vgs(th),Vgs到Vgs(th)后再增加,襯底表面感應的空穴越多,反型層加寬,而耗盡層的寬度卻不再變化,這樣我們可以用Vgs的大小控制導電溝道的寬度。

增強型P溝道mosfet開(kāi)關(guān)條件

p溝道mosfet作為開(kāi)關(guān)使用時(shí),是由Vgs的電壓值來(lái)控制S(source源極)和 D(drain漏極)間的通斷。

Vgs的最小閥值電壓為:0.4v,也就是說(shuō)當 S(source源極)電壓 — G(gate柵極)極    > 0.4V 時(shí), 源極 和 漏極導通。

并且Vs = Vd ,S極電壓等于D極電壓。

例如:S極 為 3.3V,G極 為0.1V,則  Vgs = Vg  —  Vs = -3.2 pmos管導通,D極電壓為3.3V

一般pmos管當做開(kāi)關(guān)使用的時(shí),S極和D極之間幾乎沒(méi)有壓降。

在實(shí)際使用中,一般G極接MCU控制管腳,S極接電源正極VCC,D極接器件的輸入。實(shí)際使用中的一個(gè)樣例如下:

P溝道mosfet

RF_CTRL為低電平的時(shí)候,RF_RXD 和 RF_TXD上的電壓為VDD。

下面電路為P溝道MOS管用作電路切換開(kāi)關(guān)使用電路:

P溝道mosfet

電路分析如下:

pmos的開(kāi)啟條件是VGS電壓為負壓,并且電壓的絕對值大于最低開(kāi)啟電壓,一般小功率的PMOS管的最小開(kāi)啟電壓為0.7V左右,假設電池充滿(mǎn)電,電壓為4.2V,VGS=-4.2V,PMOS是導通的,電路是沒(méi)有問(wèn)題的。當5V電壓時(shí),G極的電壓為5V,S極的電壓為5VV-二極管壓降(0.5左右)=4.5V,PMOS管關(guān)段,當沒(méi)有5V電壓時(shí),G極電壓下拉為0V,S極的電壓為電池電壓(假設電池充滿(mǎn)電4.2V)-MOS管未導通二極管壓降(0.5V)=3.7,這樣PMOS就導通,二極管壓降就沒(méi)有了這樣VGS=-4.2V.PMOS管導通對負載供電。在這里用一個(gè)肖特基二極管(SS12)也可以解決這個(gè)問(wèn)題,不過(guò)就是有0.3V左右的電壓降。這里使用PMOS管,PMOS管完全導通,內阻比較小,優(yōu)與肖特基,幾乎沒(méi)有壓降。不過(guò)下拉電阻使用的有點(diǎn)大,驅動(dòng)PMOS不需要電流的,只要電壓達到就可以了,可以使用大電阻,減少工作電流,推薦使用10K-100K左右的電阻。

p溝道mosfet參數

深圳市可易亞半導體科技有限公司.是一家專(zhuān)業(yè)從事中、大、功率場(chǎng)效應管(MOSFET)、快速恢復二極管、三端穩壓管開(kāi)發(fā)設計,集研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售為一體的國家高新技術(shù)企業(yè)。這里主要是講述P溝道mosfet的參數、型號。

P溝道mosfet

P溝道mosfet

注:這里只列出了部分型號,需咨詢(xún)更多型號及參數參考資料,請聯(lián)系我們!


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